Артикул CET281091
CET

Ракель MX-B42DU-Blade для SHARP MX-B427W/B427PW (CET), CET281091

Уточняйте наличие:
Компания CET использует разнообразные виды исходных материалов для создания запасных частей, соответствующих стандартам оригинальной продукции. Данные части разрабатываются квалифицированными инженерами с применением высокотехнологичного оборудования. Метод производства - Новый, (Drum Cleaning Blade)
Показать еще варианты

+ 9 бонусных баллов

Подождите идёт расчёт доставки...
873.74 р.
сопутствующие товары
Уточняйте наличие:
Ракель производства CET для принтеров и МФУ SHARP MX-B427W и других моделей. Компания CET использует разнообразные виды исходных материалов для создания запасных частей, соответствующих стандартам оригинальной продукции. Данные части разрабатываются квалифицированными инженерами с применением высокотехнологичного оборудования. Метод производства - Новый, (Drum Cleaning Blade)
Характеристики комплектации
Общие
  • Категория
    Ракель
  • Вендор
    FUJIFILM, LEXMARK, RICOH, SHARP, TOSHIBA, XEROX
  • Производство
    CET
  • Модель ?
    Fujifilm ApeosPort 4020SD, Fujifilm ApeosPort Print 4020SD, Lexmark B3340dw, Lexmark B3442dw, Lexmark M1342, Lexmark MB3442adw, Lexmark MB3442i, Lexmark MS331dn, Lexmark MS431dn, Lexmark MX331adn, Lexmark MX431adn, Lexmark MX432adwe, Lexmark XM1342, Lexmark XM3142, Sharp MX-B427PW, Sharp MX-B427W, Toshiba E-Studio 409S, Xerox B305, Xerox B310, Xerox B315, Ricoh M 400
  • Доп. инфо
    Компания CET использует разнообразные виды исходных материалов для создания запасных частей, соответствующих стандартам оригинальной продукции. Данные части разрабатываются квалифицированными инженерами с применением высокотехнологичного оборудования. Метод производства - Новый, (Drum Cleaning Blade)
  • Номера OEM
    MX-B42DU-Blade
  • Артикул
    CET281091
Дополнительная информация
  • Гарантийный срок
    1 год
0 оценок
0
0
0
0
0
0
Рейтинг
Мы используем файлы cookie. Продолжив использование сайта, Вы соглашаетесь с политикой использования файлов cookie, обработки персональных данных и конфиденциальности. Подробнее